Danfoss lanza la válvula ICFL 20 para refrigeración industrial

Diseñada para aplicaciones con amoníaco y CO₂, ofrece regulación precisa, estabilidad térmica y respuesta eficiente ante variaciones de carga.

Danfoss presentó la válvula de expansión y regulación directa ICFL 20 para sistemas ICF, desarrollada para ofrecer un control preciso del refrigerante en aplicaciones de refrigeración industrial. El nuevo dispositivo está optimizado para trabajar con amoníaco y CO₂, y está diseñado para aplicaciones con expansión de amoníaco NeoCharge, sistemas de recirculación con bombeo y soluciones WDX de sobrecalentamiento cero.

La ICFL 20 puede utilizarse como una válvula independiente o integrarse como módulo funcional en estaciones de válvulas ICF. De acuerdo con Danfoss, su diseño permite mantener una inyección constante de refrigerante y temperaturas estables durante condiciones transitorias y operaciones a carga parcial, aspectos relevantes para sistemas que experimentan variaciones frecuentes en su demanda.

En aplicaciones de expansión de amoníaco NeoCharge, la válvula se combina con el controlador EKE 100, disponible por separado, que permite convertir las señales provenientes del controlador EKE 450. Esta configuración posibilita el control WDX de sobrecalentamiento cero, ampliando las alternativas de regulación para sistemas industriales que buscan mejorar la estabilidad y precisión durante la operación.

Danfoss también destaca que la separación entre el actuador y el controlador facilita las tareas de cableado, puesta en marcha y mantenimiento. Asimismo, la ICFL 20 está diseñada para ofrecer respuestas escalonadas suaves durante el arranque, la descarga y los cambios de carga, contribuyendo a una operación más estable de los sistemas de refrigeración industrial.

Fuente: Danfoss